jù jiāo huán · ㄐㄩˋ ㄐㄧㄠ ㄏㄨㄢˊ
数据更新:2026-07-12 13:53:12
聚焦环和等离子体处理装置,在可以提高处理的面内均匀性的同时,与现有技术比较,还可以减小淀积对半导体晶片的周缘部分背面一侧的发生。
与「聚焦环」相关的查询结果